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  • 國(guó)產(chǎn)等離子刻蝕機(jī)

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國(guó)產(chǎn)等離子刻蝕機(jī)

簡(jiǎn)要描述:PLUTO-MH國(guó)產(chǎn)等離子刻蝕機(jī)是針對(duì)于高校,科學(xué)研究所和企業(yè)實(shí)驗(yàn)室,或者小批量生產(chǎn)的創(chuàng)新性企業(yè)而研發(fā)的創(chuàng)新型實(shí)驗(yàn)平臺(tái)。針對(duì)用戶不同的需求,我們提供不同功能附件,在獲得常規(guī)性能的同時(shí),擁有表面鍍膜(涂層),刻蝕,等離子化學(xué)反應(yīng),粉體等離子體處理等多種能力。

  • 產(chǎn)品型號(hào):PLUTO-MH
  • 廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家
  • 更新時(shí)間:2025-06-11
  • 訪  問(wèn)  量:7106

詳細(xì)介紹

國(guó)產(chǎn)等離子刻蝕機(jī)

 

  PLUTO-MH國(guó)產(chǎn)等離子刻蝕機(jī)特點(diǎn):
 
  1.針對(duì)于對(duì)等離子體處理有嚴(yán)苛要求的場(chǎng)合中使用
 
  2.等離子源才用頻率為13.56MHz射頻發(fā)生器,兼顧物理反應(yīng)和化學(xué)反應(yīng)
 
  3.采用500W功率電源,自動(dòng)阻抗匹配,高功率射頻發(fā)生器可應(yīng)對(duì)各種實(shí)驗(yàn)要求,保障高能量密度和高處理效率
 
  4.高精度真空度控制,適應(yīng)各種處理需求
 
  5.316不銹鋼腔體(或者6061鋁合金),全不銹鋼管路和連接件,適用各種氣體(包含腐蝕性氣體)
 
  6.4.3寸工業(yè)級(jí)觸摸屏,軟件操作方便,多種參數(shù)設(shè)置和工藝組合處理模式
 
  7.可增加多種配件,涂覆鍍膜,電極溫度控制,等離子體強(qiáng)度控制,等離子體化學(xué)反應(yīng)等功能(如有特殊應(yīng)用,請(qǐng)咨詢銷售人員)
 
  8.根據(jù)用戶需求,提供對(duì)應(yīng)等離子體處理方案和定制特殊用途設(shè)備
 
  PLUTO-MH國(guó)產(chǎn)等離子刻蝕機(jī)參數(shù):
 
  真空腔規(guī)格: 316不銹鋼腔體,直徑210mm*(深)230mm 約4L
 
  電極:兩個(gè)自適應(yīng)平板電極,材質(zhì)T6061鋁合金(可提供特氟龍包覆無(wú)孔平板電極,適合需要雙面處理樣品)
 
  電極尺寸:120*135mm 間距20~75mm 可調(diào)(可反轉(zhuǎn))
 
  等離子體發(fā)生器:RF射頻發(fā)生器,頻率:13.56MHz
 
  功率:0-500W連續(xù)可調(diào),自動(dòng)阻抗匹配,精度1W
 
  氣體控制:針式氣體流量閥,標(biāo)配1路氣體,全不銹鋼管道和連接件
 
  控制方式:4.3寸工業(yè)控制觸摸屏
 
  控制軟件功能:界面顯示實(shí)時(shí)工作狀態(tài),
 
  可顯示設(shè)置值與實(shí)際值,便于實(shí)時(shí)控制。
 
  可自由設(shè)置等離子功率,通入氣體時(shí)間
 
  多級(jí)操作權(quán)限,多種工藝參數(shù)組合控制,
 
  全手動(dòng)控制和全自動(dòng)控制可選
 
  保護(hù)裝置:一鍵急停保護(hù)按鈕
 
  (如需其他功能,請(qǐng)咨詢銷售人員)
 
國(guó)產(chǎn)等離子刻蝕機(jī)

          PLUTO-MH國(guó)產(chǎn)等離子刻蝕機(jī)應(yīng)用領(lǐng)域:
 
  配置不同模塊,拓展不同應(yīng)用
 
  加熱電極模塊-溫度可控,可以加速等離子體處理速度和極大提高樣品處理的均勻性
 
  沉積鍍膜模塊,改變表面特性:
 
  沉積CF材料,樣品表面可以具有憎水的特性
 
  沉積含苯材料,樣品表面起到絕緣防水的特性
 
  沉積含有羥基的材料,提高樣品表面和其他材料的結(jié)合效果
 
  感應(yīng)耦合模塊-感應(yīng)耦合等離子體裝置
 
  氣體混合裝置
 
  可以根據(jù)可以要求進(jìn)行混氣設(shè)計(jì)
 
  氣體純化和反應(yīng)
 
  氣體純化和使用等離子體與相關(guān)材料進(jìn)行化學(xué)反應(yīng)
 

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